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ST-2000
平台尺寸 |
150 x 120mm(70 x 50mm行程) |
测量范围 |
200A~35um(取决于薄膜类型) |
测点尺寸 |
一般20um |
测量速度 |
1 sec/site |
应用领域 |
Polymers : PVA, PET, PP, PR
Dielectrics : SiO 2, TiO 2 , ITO, ZrO 2 , Si 3 N 4
Semiconductors : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS.
*Supporting up to 3 Layers
*Supporting Backside Reflection |
镜 筒 |
三筒 |
目 镜 |
内倾四孔转换器 |
放大倍率 |
40× ~ 500× |
照明类型 |
12V 35W卤素灯 内置控制器及变压器 |
ST-4000
平台尺寸 |
500mm x 300mm (200mm x 200mm行程) |
测量范围 |
100A~50um(取决于薄膜类型) |
测点尺寸 |
40um/20um/10um
4um(可选) |
测量速度 |
1 sec/site |
应用领域 |
兼容 ST2000 型所有应用 & 测量更精确
测量Wafer & OLED |
选 件 |
可编程自动X-Y-Z平台 |
对 焦 |
同轴粗调及微调 |
入射照明 |
12V 100W卤素灯 |
ST-5000
平台尺寸 |
500mm x 500mm (300mm x 300mm行程) |
测量范围 |
100A~50um(取决于薄膜类型) |
测点尺寸 |
40um/20um/10um
4um(可选) |
测量速度 |
1 sec/site |
应用领域 |
兼容 ST2000 型所有应用 & 测量更精确
测量大尺寸Wafer |
选 件 |
参考试样
防震台
自动对焦
CCD摄像头 |
回转目镜 |
内倾四孔转换器 |
对 焦 |
同轴粗调及微调 |
入射照明 |
12V 50W卤素灯 |
ST-6000
平台尺寸 |
1300mm x 1100mm
自动厚度测量 |
测量范围 |
100A~50um(取决于薄膜类型) |
测点尺寸 |
40um/20um/10um/4um(可选20,10,5,2um) |
测量速度 |
1~2 sec/site |
应用领域 |
Polymers : PVA, PET, PP, PR
Dielectrics : SiO 2 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , Si 3 N 4
semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, inP,ZnS...
PR,ITO,SIO2 on the Glass Intended for Large Size PDP
Dlelectric Material, MgO, ITO on the Glass
Intended for TFT-LCD, STN-LCD |
选 件 |
可编程自动X-Y-Z平台
自动对焦
CCD摄像头 |
ST-7000
平台尺寸 |
1700mm x 1200mm
自动厚度测量 |
测量范围 |
100A~50um(取决于薄膜类型) |
测点尺寸 |
40um/20um/10um/4um |
测量速度 |
1~2 sec/site |
应用领域 |
Polymers : PVA, PET, PP, PR
Dielectrics : SiO 2 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , Si 3 N 4
semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, inP,ZnS...
PR,ITO,SIO2 on the Glass Intended for Large Size PDP
Dlelectric Material, MgO, ITO on the Glass
Intended for Large size PDP |
选 件 |
可编程自动X-Y-Z平台
自动对焦
CCD摄像头 |
功 能 |
Pattern Identification by Pattern Maching
Entry-level CD Measurement |
ST-8000
平台尺寸 |
1300mm x 1100mm
全自动厚度测量 |
测量范围 |
100A~25um亚微米级尺寸 |
测点尺寸 |
~0.2um x 0.2um |
测量速度 |
14sec/Area |
应用领域 |
兼容 ST6000 / ST7000 所有应用 |
选 件 |
自动对焦
CCD摄像头 |
功 能 |
Pattern Identification by Pattern Maching
Entry-level CD Measurement
亚微米级尺寸表面上的薄膜厚度测量 |
ST4080-OSP
ST4080-OSP（有机可焊性保护膜）专用于分析测量PCB/PWB上OSP涂层铜铂厚度。它属于使用分光反射法的非破坏性光学测量仪，可提供平均厚度和详细的3D平面轮廓资料，使得实时检测无需任何的样品制备。由于ST4080-OSP具有测量很小面积与自动聚焦功能，适用于PCB基板表面的实模式。ST4080-OSP在半导体，平板显示与其他电子材料行业方面的可靠性已经得到了证实。
为什么要选择 ST4080-OSP?
ST4080-OSP 使用反射测量法提供PCB/PWB表面OSP涂层厚度的非接触和非破坏性实时测量。
ST4080-OSP 无需样品制备，可确保快速和简便操作。
ST4080-OSP 测量的光斑尺寸可减小到0.135，这使得它可测量表面粗糙的铜的OSP涂层厚度.
ST4080-OSP 与紫外可见分光计，受迫离子束方法，时序电化学还原分析还有其他的测量方法相
比较，它基于更可靠的测量技术。
ST4080-OSP 可获取420nm~640nm范围内的多波长光谱。
ST4080-OSP 可提供各点和它们的平均厚度的详细数据，这样可帮助人们更好地控制OSP质量。
ST4080-OSP 通过3D表面形态学将测量程序最优化。
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在电路行业，有机可焊性保护膜（OSP）涂层的使用对保护铜表面防止氧化是必需的。
关于RoHS指令，该保护膜涂层要求无铅适用，易加工和低成本。它的标准厚度测量范围是0.1~0.5μm。
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ST4080-OSP 通过分析基板上薄膜表面的反射光和基板表面的反射光之间的光谱干涉来测量薄膜厚度。ST4080-OSP 同时测量多个光斑，并以轮廓形式显示厚度测量结果。
ST4080-OSP有两种光学透镜。用户可使用5倍的光学透镜方便地进入详细模式的自选区域，再通过使用50倍的光学透镜获取详细厚度轮廓。 |
波长范围 |
420nm ~ 640nm |
厚度测量范围 |
350A ~ 3μm |
最小光斑尺寸 |
1.35 μm, 0.135 μm |
目标面积 |
864X648 μm / 86.4X64.8 μm |
物镜转动架 |
5X(spot size 20 μm), 50X(spot size 0.2 μm) |
测量层 |
1 |
固定样台面积 |
270mm(L) X 240mm(D) |
Z轴再现性 |
± 1 μm |
自动Z装置 |
Z direction Head Movement
Travel range: 50mm
Max. velocity: 50mm/s |
特征 |
Non-destructive OSP thickness measurement
No sample preparation for fast and easy operation
Available to detect OSP coating on Cu with rough surface conditions
Auto-focusing function
3D contours results |
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