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   ST-2000
   ST-4000
   ST-5000
   ST-6000
   ST-7000
   ST-8000
   ST-4080-OSP
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KMAC
超精密光学薄膜厚度测试仪系列

  ○  ST-2000
  ○  ST-4000
  ○  ST-5000
  ○  ST-6000
  ○  ST-7000
  ○  ST-8000
  ○  ST-4080-OSP

ST-2000

平台尺寸
 150 x 120mm(70 x 50mm行程)
测量范围
 200A~35um(取决于薄膜类型)
测点尺寸
 一般20um
测量速度
 1 sec/site
应用领域
 Polymers : PVA, PET, PP, PR
  Dielectrics : SiO 2, TiO 2 , ITO, ZrO 2 , Si 3 N 4
  Semiconductors : Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS.
  *Supporting up to 3 Layers
  *Supporting Backside Reflection
镜  筒
 三筒
目  镜
 内倾四孔转换器
放大倍率
 40× ~ 500×
照明类型
 12V 35W卤素灯 内置控制器及变压器


ST-4000

平台尺寸
 500mm x 300mm (200mm x 200mm行程)
测量范围
 100A~50um(取决于薄膜类型)
测点尺寸
 40um/20um/10um
  4um(可选)
测量速度
 1 sec/site
应用领域
 兼容 ST2000 型所有应用 & 测量更精确
  测量Wafer & OLED
选  件
 可编程自动X-Y-Z平台
对  焦
 同轴粗调及微调
入射照明
 12V 100W卤素灯


ST-5000

平台尺寸
 500mm x 500mm (300mm x 300mm行程)
测量范围
 100A~50um(取决于薄膜类型)
测点尺寸
 40um/20um/10um
  4um(可选)
测量速度
 1 sec/site
应用领域
 兼容 ST2000 型所有应用 & 测量更精确
  测量大尺寸Wafer
选  件
 参考试样
  防震台
  自动对焦
  CCD摄像头
回转目镜
 内倾四孔转换器
对  焦
 同轴粗调及微调
入射照明
 12V 50W卤素灯


ST-6000

平台尺寸
 1300mm x 1100mm
  自动厚度测量
测量范围
 100A~50um(取决于薄膜类型)
测点尺寸
 40um/20um/10um/4um(可选20,10,5,2um)
测量速度
 1~2 sec/site
应用领域
 Polymers : PVA, PET, PP, PR
  Dielectrics : SiO 2 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , Si 3 N 4
  semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, inP,ZnS...
  PR,ITO,SIO2 on the Glass Intended for Large Size PDP
  Dlelectric Material, MgO, ITO on the Glass
  Intended for TFT-LCD, STN-LCD
选  件
 可编程自动X-Y-Z平台
  自动对焦
  CCD摄像头


ST-7000

平台尺寸
 1700mm x 1200mm
  自动厚度测量
测量范围
 100A~50um(取决于薄膜类型)
测点尺寸
 40um/20um/10um/4um
测量速度
 1~2 sec/site
应用领域
 Polymers : PVA, PET, PP, PR
  Dielectrics : SiO 2 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , Si 3 N 4
  semiconductors: Poly-Si, GaAs, GaN, inP,ZnS...
  PR,ITO,SIO2 on the Glass Intended for Large Size PDP
  Dlelectric Material, MgO, ITO on the Glass
  Intended for Large size PDP
选  件
 可编程自动X-Y-Z平台
  自动对焦
  CCD摄像头
功  能
 Pattern Identification by Pattern Maching
  Entry-level CD Measurement


ST-8000

平台尺寸
 1300mm x 1100mm
  全自动厚度测量
测量范围
 100A~25um亚微米级尺寸
测点尺寸
 ~0.2um x 0.2um
测量速度
 14sec/Area
应用领域
 兼容 ST6000 / ST7000 所有应用
选  件
 自动对焦
  CCD摄像头
功  能
 Pattern Identification by Pattern Maching
  Entry-level CD Measurement
  亚微米级尺寸表面上的薄膜厚度测量 


ST4080-OSP

  ST4080-OSP(有机可焊性保护膜)专用于分析测量PCB/PWB上OSP涂层铜铂厚度。它属于使用分光反射法的非破坏性光学测量仪,可提供平均厚度和详细的3D平面轮廓资料,使得实时检测无需任何的样品制备。由于ST4080-OSP具有测量很小面积与自动聚焦功能,适用于PCB基板表面的实模式。ST4080-OSP在半导体,平板显示与其他电子材料行业方面的可靠性已经得到了证实。

为什么要选择 ST4080-OSP?

ST4080-OSP 使用反射测量法提供PCB/PWB表面OSP涂层厚度的非接触和非破坏性实时测量。
ST4080-OSP 无需样品制备,可确保快速和简便操作。
ST4080-OSP 测量的光斑尺寸可减小到0.135,这使得它可测量表面粗糙的铜的OSP涂层厚度.
ST4080-OSP 与紫外可见分光计,受迫离子束方法,时序电化学还原分析还有其他的测量方法相
      比较,它基于更可靠的测量技术。
ST4080-OSP 可获取420nm~640nm范围内的多波长光谱。
ST4080-OSP 可提供各点和它们的平均厚度的详细数据,这样可帮助人们更好地控制OSP质量。
ST4080-OSP 通过3D表面形态学将测量程序最优化。

在电路行业,有机可焊性保护膜(OSP)涂层的使用对保护铜表面防止氧化是必需的。
关于RoHS指令,该保护膜涂层要求无铅适用,易加工和低成本。它的标准厚度测量范围是0.1~0.5μm。
 

ST4080-OSP 通过分析基板上薄膜表面的反射光和基板表面的反射光之间的光谱干涉来测量薄膜厚度。ST4080-OSP 同时测量多个光斑,并以轮廓形式显示厚度测量结果。
ST4080-OSP有两种光学透镜。用户可使用5倍的光学透镜方便地进入详细模式的自选区域,再通过使用50倍的光学透镜获取详细厚度轮廓。
 

波长范围
420nm ~ 640nm
厚度测量范围
350A ~ 3μm
最小光斑尺寸
1.35 μm, 0.135 μm
目标面积
864X648 μm / 86.4X64.8 μm
物镜转动架
5X(spot size 20 μm), 50X(spot size 0.2 μm)
测量层
1
固定样台面积
270mm(L) X 240mm(D)
Z轴再现性
± 1 μm
自动Z装置
Z direction Head Movement
Travel range: 50mm
Max. velocity: 50mm/s

特征

Non-destructive OSP thickness measurement
No sample preparation for fast and easy operation
Available to detect OSP coating on Cu with rough surface conditions
Auto-focusing function
3D contours results