KMAC
超精密光学薄膜厚度测试仪系列
KMAC超精密薄膜厚度测量仪及分析仪系列已广泛应用在韩国,日本和台湾等许多国家的半导体工程,绝缘体薄膜,和众多的LCD/PDP/ELD/OLED等平板显示设备相关的生产企业。从台式的实验室分析设备到大型在线测量设备,KMAC提供众多的型号和功能选择。卓越的设计和可靠性能使埃-纳米-微米级测量的精度和重复性大大提高的同时，测量速度也大大加快以满足在线式检测的要求。
|
|
|
■ 探头
■ 显微镜,带样品平台及镜头
■ 打印电缆及稳压电源
■ 使用n,k数据或公式等三种类型的曲线拟合分析软件
|
|
|
|
利用可见光间接测量
光源与信号通道
– 可见光 → 薄层 → 表面 & 分界面反射 → 玻璃纤维探针 → 分光光度计 → 波长分析 → A/D 转换 → PC → 软件处理
|
干涉频谱
– 相干光 → 表面反射 + 薄膜 / 底层反射 = 干涉现象 → 相长 / 相消干涉（与波长有关）
|
|
光谱拟合薄膜厚度
– 在波长范围里测量频谱的正弦波型由薄膜厚度和 N&K 值决定
– 由拟合计算测定频谱来优化薄膜厚度和 N&K 值
|
 |
|
⊙ 实时测量
⊙ 厚度及光学常数
⊙ 最高3层薄膜测量
⊙ 测量结果制图
⊙ X-Y-Z移动控制
⊙ CCD影像显示
⊙ 自定义测量过程
⊙ 打印预览模式 |
半导体
|
Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ... |
绝缘材料 |
SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ... |
聚合物 |
PVA, PET, PP, PR ... |
LCD |
a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film |
光学镀层 |
Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ... |
可纪录材料 |
Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ... |
其它 |
Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors ... |
功能 |
光谱反射法 |
椭偏仪 |
表面轮廓描绘 |
X射线荧光分析 |
非破坏性 |
是 |
是 |
否 |
是 |
微观区域 |
是 |
否 |
否 |
否 |
识别图案 |
可能 |
不可能 |
不可能 |
不可能 |
测量厚度 |
Thick(μ m) |
可能 |
有误差 |
可以 |
可以 |
Thin(?) |
可能 |
可能 |
可能 |
不可能 |
测量速度 |
>0.5秒 |
>~分钟 |
>~10分钟 |
>~20分钟 |
处理能力 |
高 |
低 |
很低 |
很低 |
金属膜 |
否 |
否 |
是 |
特定金属 |
N, K 值测量 |
可以 |
是 |
否 |
否 |
样品制备 |
容易 |
容易 |
困难 |
困难 |
方便性 |
很好 |
好 |
较差 |
较差 |
|
