Zeiss Nano Techno. SEM
EVO MA 10
扫描电镜

　　EVO MA 10对许多有材料分析需求的用户来说是较好的选择。现在非导体成像是纳米技术的重要核心，并且仅靠常规的高真空电镜已经被淘汰了。MA10的标准是具有一个大的5轴马达平台和变压能力，而且还有一套易于使用的SmartSEM软件，以上能提供给您完美的成像分辨率，以适合当今材料分析扫描电镜的需求。

■ 变压操作
■ 大平台移动范围
■ 快速降压
■ 未来可升级用于含水试样
■ 高亮度LaB6电子枪
■ 使用BeamSleeve?技术
■ 基于网络的远程遥控诊断
■ 从其他数字设备导入图像操作导航
■ 增强的低压成像
■ 用于X-Ray的增强La6成像

领先的X射线几何学设计

■ MA系列中的所有仪器都有相同的高分辨率
■ MA系列拥有相当的多种工作模式和独有的EVO?镜筒技术
■ 实现了EDS、WDS、和EBSD的优化布局
■ 物镜采用圆锥形剖面设计
■ 最佳的工作距离8.5mm，保持X射线的35°出射角
■ 非常适合X射线能谱以及波谱分析

EBSD的几何共面

■ 在所有的EVO设备中，镜筒的电子光学光轴、EBSD摄像机、EDS探测器和式样的倾斜方向均处于同一平面内
■ 最佳的几何共面设计
■ 很适用于先进的EBSD研究
■ 结合EDS可进行元素分析

境内抽真空和BeamSleeve?技术

■ MA系列中的所有仪器物镜都有"透镜内抽真空"(TTL)功能
■ 透镜内抽真空保证了较高试样真空压力下的最佳成像
■ 可以将含水试样保持在原有状态
■ BeamSleeve?技术是在TTL技术基础上最大限度将电子束和试样室内的荷电补偿气体隔离
■ BeamSleeve?技术在EDS下，具有鲜明图像和较高的分析准确度
■ MA系列具有最短的BGPL(电子束-气体路径长度)距离--2mm