Zeiss Nano Techno. SEM EVO MA 25 超大型MA扫描电镜
EVO MA 25是为那些在材料分析领域用户对超大、超重样品进行分析研究而准备的最佳选择。它具有一个很高的舱体，足以放入高度超过200mm的样品，还有一个大步进五轴马达平台，EVO? MA 25提供给您完美的大样品成像的解决方案。 应用领域： 有刑侦、博物馆、汽车制造、航空、平板液晶和印刷电路板行业等。
EVO MA 25是为那些在材料分析领域用户对超大、超重样品进行分析研究而准备的最佳选择。它具有一个很高的舱体，足以放入高度超过200mm的样品，还有一个大步进五轴马达平台，EVO? MA 25提供给您完美的大样品成像的解决方案。
应用领域： 有刑侦、博物馆、汽车制造、航空、平板液晶和印刷电路板行业等。
■ 支持最大样品高度为210mm ■ 支持最大样品重量为5kg ■ 支持最大样品直接为300mm ■ 可变压力操作 ■ 高亮度LaB6电子枪源可选择 ■ BeamSleeve?可选择 ■ Z轴自动马达步进50mm，X轴和Y轴达到130mm ■ 增强LaB6电子枪成像，用于X-ray分析 ■ 支持2个舱体观察镜
先进技术
领先的X射线几何学设计 ■ LS系列中的所有仪器都有相同的高分辨率 ■ LS系列拥有相当的多种工作模式和独有的EVO?镜筒技术 ■ 实现了EDS、WDS、和EBSD的优化布局 ■ 物镜采用圆锥形剖面设计 ■ 最佳的工作距离8.5mm，保持X射线的35°出射角 ■ 非常适合X射线能谱以及波谱分析
领先的X射线几何学设计
■ LS系列中的所有仪器都有相同的高分辨率 ■ LS系列拥有相当的多种工作模式和独有的EVO?镜筒技术 ■ 实现了EDS、WDS、和EBSD的优化布局 ■ 物镜采用圆锥形剖面设计 ■ 最佳的工作距离8.5mm，保持X射线的35°出射角 ■ 非常适合X射线能谱以及波谱分析
EBSD的几何共面 ■ 在所有的EVO设备中，镜筒的电子光学光轴、EBSD摄像机、EDS探测器和式样的倾斜方向均处于同一平面内 ■ 最佳的几何共面设计 ■ 很适用于先进的EBSD研究 ■ 结合EDS可进行元素分析
EBSD的几何共面
■ 在所有的EVO设备中，镜筒的电子光学光轴、EBSD摄像机、EDS探测器和式样的倾斜方向均处于同一平面内 ■ 最佳的几何共面设计 ■ 很适用于先进的EBSD研究 ■ 结合EDS可进行元素分析
境内抽真空和BeamSleeve?技术 ■ LS系列中的所有仪器物镜都有"透镜内抽真空"(TTL)功能 ■ 透镜内抽真空保证了较高试样真空压力下的最佳成像 ■ 可以将含水试样保持在原有状态 ■ BeamSleeve?技术是在TTL技术基础上最大限度将电子束和试样室内的荷电补偿气体隔离 ■ BeamSleeve?技术在EDS下，具有鲜明图像和较高的分析准确度 ■ LS系列具有最短的BGPL(电子束-气体路径长度)距离--2mm
境内抽真空和BeamSleeve?技术
■ LS系列中的所有仪器物镜都有"透镜内抽真空"(TTL)功能 ■ 透镜内抽真空保证了较高试样真空压力下的最佳成像 ■ 可以将含水试样保持在原有状态 ■ BeamSleeve?技术是在TTL技术基础上最大限度将电子束和试样室内的荷电补偿气体隔离 ■ BeamSleeve?技术在EDS下，具有鲜明图像和较高的分析准确度 ■ LS系列具有最短的BGPL(电子束-气体路径长度)距离--2mm
样品图像
